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报告称中国可能在秘密实验室逆向工程EUV光刻机——员工被发放假身份证以防秘密项目被发现，原型预计在2028年
据报道，中国已经建造并开始测试一款使用 ASML 式激光等离子体技术的秘密 EUV 光刻原型。然而，尽管产生了 13.5‑…
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英特尔安装业界首台商业化高NA EUV光刻机——ASML Twinscan EXE:5200B 为14A铺路
英特尔已安装并确认了ASML的TWINSCAN EXE:5200B，这是一款为商业生产设计的首台High-NA EUV光刻机，重申了英特尔的计划……