报告称中国可能在秘密实验室逆向工程EUV光刻机——员工被发放假身份证以防秘密项目被发现，原型预计在2028年

Source: Tom’s Hardware

概述

据报道，中国已经建造并开始测试一款使用类似ASML激光等离子体技术的秘密EUV光刻原型。尽管该系统能够产生13.5 nm波长的光，但仍无法制造芯片，且看起来距离实现完整的、可投产的EUV制造能力还有数年之遥。