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  • 15시간 전 · it

    중국이 비밀 실험실에서 EUV 리소그래피 툴을 역설계했을 가능성이 있다고 보고서가 주장 — 비밀 프로젝트가 적발되는 것을 피하기 위해 직원들에게 가짜 신분증을 제공했으며, 2028년에 시제품이 예상된다

    중국은 ASML 스타일의 레이저 플라즈마 기술을 이용한 비밀 EUV 리소그래피 프로토타입을 구축하고 테스트를 시작한 것으로 알려졌다. 그러나 13.5-...

    #EUV lithography #China #ASML #semiconductor manufacturing #reverse engineering #chip production #hardware #technology espionage
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