新 1.4nm nanoimprint lithography 模板可能降低先进工艺节点对 EUV 步骤的需求——仍有疑问，因为尚无代工厂承诺在大规模制造中采用 nanoimprint lithography
发布: (2025年12月17日 GMT+8 00:00)
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原文: Tom's Hardware
Source: Tom’s Hardware
日本大日本印刷（DNP）突破
日本的大日本印刷（DNP）声称已开发出一种纳米压印光刻模板，能够以 1.4 nm 的特征尺寸进行逻辑图案化，并计划在 2027 年实现量产。