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新 1.4nm nanoimprint lithography 模板可能降低先进工艺节点对 EUV 步骤的需求——仍有疑问，因为尚无代工厂承诺在大规模制造中采用 nanoimprint lithography
日本的大日本印刷（DNP）声称已开发出一种 nanoimprint lithography 模板，能够以 1.4 nm 的特征尺寸进行逻辑图案化，并计划……
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中国考虑投入 700亿美元用于国内芯片制造，将成为政府在半导体领域最大规模的投资——华为和寒武纪等候选企业正推动与 Nvidia 及其他美国公司竞争
中国正考虑向国内芯片制造商追加最高达700亿美元的投资，以更好地与像 Nvidia 这样的美国公司竞争。Alth...