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新 1.4nm nanoimprint lithography 模板可能降低先进工艺节点对 EUV 步骤的需求——仍有疑问，因为尚无代工厂承诺在大规模制造中采用 nanoimprint lithography

日本的大日本印刷（DNP）声称已开发出一种 nanoimprint lithography 模板，能够以 1.4 nm 的特征尺寸进行逻辑图案化，并计划……