새로운 1.4nm nanoimprint lithography 템플릿, 고급 process nodes에서 EUV 단계 필요성 감소 가능 — 아직 고량 생산을 위한 nanoimprint lithography에 전념한 파운드리가 없어 의문이 남는다
발행: (2025년 12월 17일 오전 01:00 GMT+9)
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원문: Tom's Hardware
Source: Tom’s Hardware
Japan’s Dai Nippon Printing (DNP) breakthrough
일본의 다이닛폰 프린팅(DNP)은 1.4 nm 피처 사이즈의 로직을 패터닝할 수 있는 나노임프린트 리소그래피 템플릿을 개발했다고 주장하며, 2027년 대량 생산을 목표로 하고 있습니다.